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カトウダ, タカシ
河東田, 隆(1944-)
著者名典拠詳細を表示
著者の属性
個人
一般注記
東京大学工学部教授
工学博士
出生地の追加は著書「レーザーラマン分光法による半導体の評価」(1988,東京大学出版会)の奥付より。
EDSRC:ガリウムヒ素 / 生駒俊明, 河東田隆, 長谷川文夫著(丸善, 1988.1):奥付(著者の現職:河東田隆:東京大学工学部境界領域研究施設助教授)
生没年等
1944
コード類
典拠ID=0000006227 NCID=DA00880833
1
デバイスプロセス / 河東田隆著
東京 : 培風館 , 1993.1
2
半導体評価技術 / 河東田隆編著 ; 奥村次徳 [ほか] 執筆
東京 : 産業図書 , 1989.2
3
半導体結晶 : エレクトロニクスをささえる技術 / 河東田隆著
東京 : 丸善 , 1987.12
4
半導体エピタキシー技術 / 河東田隆著
東京 : 産業図書 , 1982.10
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