OPAC

ヒラオ, タカシ

平尾, 孝

著者の属性	個人
一般注記	博士論文 Studies on structural properties of silicon-based insulator films prepared by plasma processings, 1989 金沢大学大学院自然科学研究科松下電気産業(株)中央研究所(1992年4月現在) EDSRC:薄膜技術の新潮流 : 多彩な新規応用をカバー / 平尾孝〔ほか〕共著(工業調査会, 1997.7)
から見よ参照	Hirao, Takashi
コード類	典拠ID=0000028196 NCID=DA0549966X


1	薄膜技術の新潮流 : 多彩な新規応用をカバー / 平尾孝, 吉田哲久, 早川茂共著東京 : 工業調査会 , 1997.7

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