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ササキ, キミヒロ
佐々木, 公洋(1958-)
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個人
一般注記
SRC:炭化シリコン超薄膜を正孔障壁層に用いる新しいエミッタ構造の研究 / 研究代表者:佐々木公洋([佐々木公洋], 1997)
EDSRC:超高濃度ホウ素ドープSiGeによる巨大熱起電力の発現とその応用 / 研究代表者:佐々木公洋([佐々木公洋], 2006.4):(金沢大学自然科学研究科教授)
コード類
典拠ID=0000045596 NCID=DA10895349
1
基礎からの半導体デバイス / 和保孝夫 [ほか] 共著
東京 : 日新出版 , 2008.4
2
基礎からの電磁気学 / 中川紀美雄 [ほか] 共著
東京 : 日新出版 , 2006.4
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