ヒカリ レイキ プロセス ノ キソ : プロセス ノ テイオン ・ ムソンショウカ オ ジツゲン
光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現 / 高橋清 [ほか] 編著
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版者 | 東京 : 工業調査会 |
| 出版年 | 1994.3 |
| 本文言語 | 日本語 |
| 大きさ | 266p ; 21cm |
所蔵情報を非表示
| 配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 登録番号 | 状 態 | ISBN | 資料種別 | 利用注記 | 請求メモ | 予約 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 2F書庫1-和書 |
|
549.8/Ta33 | 010396484 | 4769311222 | 図書 |
|
|
|
書誌詳細を非表示
| 一般注記 | 執筆者: 西澤潤一ほか 章末: 参考文献 |
|---|---|
| 著者標目 | 高橋, 清(1934-) [ほか]編著 <タカハシ, キヨシ> 西澤, 潤一(1926-) <ニシザワ, ジュンイチ> |
| 件 名 | BSH:半導体 BSH:光化学 NDLSH:電子部品 |
| 分 類 | NDC8:549.8 NDC8:549 |
| 書誌ID | 1000005460 |
| ISBN | 4769311222 |