ヒカリ レイキ プロセス ノ キソ : プロセス ノ テイオン ・ ムソンショウカ オ ジツゲン
光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現 / 高橋清 [ほか] 編著
| Material Type | Books |
|---|---|
| Publisher | 東京 : 工業調査会 |
| Year | 1994.3 |
| Language | Japanese |
| Size | 266p ; 21cm |
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| Location | Volume | Call No. | Barcode No. | Status | ISBN | Media type | Restriction | Request Memo | Reserve |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 2F書庫1-和書 |
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549.8/Ta33 | 010396484 | 4769311222 | 図書 |
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| Notes | 執筆者: 西澤潤一ほか 章末: 参考文献 |
|---|---|
| Authors | 高橋, 清(1934-) [ほか]編著 <タカハシ, キヨシ> 西澤, 潤一(1926-) <ニシザワ, ジュンイチ> |
| Subjects | BSH:半導体 BSH:光化学 NDLSH:電子部品 |
| Classification | NDC8:549.8 NDC8:549 |
| ID | 1000005460 |
| ISBN | 4769311222 |
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