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フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ノ シンテンカイ

フォトレジスト材料開発の新展開 / 上田充監修

(CMCテクニカルライブラリー;562 . エレクトロニクスシリーズ)
Material Type Books
Edition 普及版
Publisher 東京 : シーエムシー出版
Year 2015.11
Language Japanese
Size vii, 317p : 挿図 ; 26cm

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Location Volume Call No. Barcode No. Status ISBN Media type Restriction Request Memo Reserve
2F書庫1-和書
549.7/U 32 3000007251 9784781310398 図書

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Other titles title page title:New trends of photoresists
Notes 2009年刊の普及版
文献: 各章末
Authors 上田, 充(1948-) <ウエダ, ミツル>
Subjects BSH:リソグラフィー
BSH:感光性樹脂
Classification NDC8:549.7
NDC9:549.7
ID 4000007496
ISBN 9784781310398

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